溫濕度控制系統在基板曝光前，能有效維持其表面溫度的均一性。經過此設備處理后的空氣，溫度控制精度可達目標值±0.01℃，充分滿足制程環境對溫控的要求。

溫濕度控制在基板曝光前，能有效維持其表面溫度的均一性。經過此設備處理后的空氣，溫度控制精度可達目標值±0.01℃，充分滿足制程環境對溫控的要求。

氣體溫濕度在基板曝光前，能有效維持其表面溫度的均一性。經過此設備處理后的空氣，溫度控制精度可達目標值±0.01℃，充分滿足制程環境對溫控的要求。